濃度測定装置、自動制御、診断制御装置など各種生産ライン装置の開発、提案

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弗酸/硝酸/硫酸/ケイフッ化水素濃度測定制御装置　SEEDA-TX/N型

装置の概要

	太陽電池用シリコンウエハーの等方性エッチング加工には弗酸系エッチング液が用いられ、異方性エッチング加工にはKOHやTMAH等の塩基性エッチング液が用いられています。 この制御装置は酸性エッチング液中の、反応に必要な個々の成分濃度を測定制御する機能を有し、高価な薬液の消費量を大幅に削減できると共に加工品質の向上に寄与します。

加工反応

Si⁰ のエッチング加工は次の反応原理に基づき行われています。
　Si⁰ 　 + 　2HNO₃ →　 SiO₂ + 2HNO₂　---- (Si^O 酸化反応式 -1)
　SiO₂ + 　6HF →　 H₂SiF₆ + 2H₂O　 ---- (SiO₂ 溶解反応式 -2)

装置の基本仕様

内訳	SEEDA-TX/N型
HNO3測定制御範囲	0.0～10.0N
HF測定制御範囲	0.0～5.0N
H2SO4測定監視範囲	0.0～10.0N
H2SiF6測定監視範囲	0.0～10.0 wt%
測定原理	特殊滴定法
測定時間	約20min/1サンプル測定
制御対象成分	HNO3. HF. H2SO4 . H2SiF6
測定精度 HNO3	測定値±0.20
測定精度 HF	測定値±0.10
測定精度 H2SO4	測定値±0.10
測定精度 H2SiF6	測定値±0.20