濃度測定装置、自動制御、診断制御装置など各種生産ライン装置の開発、提案

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弗酸/硝酸/苛性ソーダ/i-PrOH濃度測定制御装置　SEEDA-TX/NNA

装置の概要

	太陽電池用シリコンウエハーの等方性エッチング加工には弗酸系エッチング液が用いられ、異方性エッチング加工にはKOH/NaOHやTMAH等の塩基性エッチング液が用いられています。 この制御装置は酸性エッチング液並びに塩基性エッチング液中の、反応に必要な個々の成分濃度を測定制御する機能を有し、高価な薬液の消費量を大幅に削減できると共に加工品質の向上に寄与します。

加工反応

Si⁰ のエッチング加工は次の反応原理に基づき行われています。
　Si⁰ 　 + 　2HNO₃ →　 SiO₂ + 2HNO₂　---- (Si^O 酸化反応式 -1)
　SiO₂ + 　6HF →　 H₂SiF₆ + 2H₂O　 ---- (SiO₂ 溶解反応式 -2)

装置の基本仕様

SEEDA-NNAM型	測定制御/監視範囲	測定精度
HNO3	0.0~50.0 wt%	測定値±0.2
HF	0.0~10.0 wt%	測定値±0.2
H2SiF6	0.0~20.0 wt%	測定値±0.3
NaOH/KOH	0.0~20.0 wt%	測定値±0.05
Na2CO3/K2CO3	0.0~10.0 wt%	測定値±0.04
i-PrOH/C2H5OH	0.0~20.0 wt%	測定値±0.20
測定時間	約20min/1サンプル
測定原理	特殊滴定＆吸光度法