濃度測定装置、自動制御、診断制御装置など各種生産ライン装置の開発、提案

1. アナック ホーム
2. 主な取扱装置
3. 液晶／半導体／その他電子部品生産ライン
4. 装置一覧
5. SEEDA-DEV

SEEDA-DEV

適用分野

反応に有効なTMAH濃度を測定した一定の値に制御して、現像加工の安定化と薬液消費量の大幅な削減並びに薬液更新時間の延長を図ります。
なお、現像加工液の有効Na₂SiO₃、KOH、NaOHなど濃度の測定も適用します。

遊離TMAH系

制御方式 シーケンサー制御方式 測定方式 特殊中和滴定法 測定範囲 TMAH： 0.00～5.00 wt％ TMAH・CO3： 0.00～2.00 wt％ レジスト濃度： 0.00～1.00 abs 最短測定周期 7min/1成分測定 測定精度 TMAH： 測定値±0.01wt％ TMAH・CO3： 測定値±0.01wt％ 制御対象数 最大3ライン制御可能 データ表示器 カラーLCD(濃度) データ通信 メモリカード記憶orRS232C通信

Na₂SiO₃系

濃度測定原理 中和滴定法測定方式 装置型式 SEEDA-DEV 測定成分名 Na2SiO3 測定範囲 0～20.00wt％（変更可能） 測定精度 測定値±0.001wt％以下 濃度制御精度 設定値±0.10％以下 補給制御薬液 高濃度のNa2SiO3

KOH系

濃度測定原理 中和滴定法測定方式 装置型式 SEEDA-DEV/1by2型／ Max／1by3増設可能 測定成分名 KOH 測定範囲 0～5.00wt％（変更可能） 測定精度 測定値±0.001wt％以下 濃度制御精度 設定値±0.10％以下 補給制御薬液 高濃度のKOH

NaOH系

濃度測定原理 中和滴定法測定方式 測定成分名 NaOH／Na2CO3／NaHCO3 測定範囲 （変更可能） NaOH／0.0～2.00g／L 0～5.00wt％ NaHCO3／0.0～2.00g／L 測定精度 NaOH測定値±0.02g／L以下 Na2CO3測定値±0.08g／L以下 補給制御薬液 高濃度のNaOH