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液晶/半导体/其他电子部品生产Line

SEEDA-DEV

适用领域

本装置通过将显影反应中有效的TMAT的浓度控制在设定的浓度值范围内,从而大幅削减显影液用量,保证加工品质。
此外。也适用于显影加工液中的有效 Na2SiO3,KOH,NaOH浓度的测定。

游离TMAH系

SEEDA-CE
控制方式 序列器控制方式
测定方式 特殊中和滴定法
测定范围 TMAH:0.00~5.00 wt%
TMAH・CO30.00~2.00 wt%
光该胶:0.00~1.00 abs
最短测定周期 7min/1成分测定
测定精度 TMAH:测定值±0.01wt%
TMAH・CO3测定值±0.01wt%
控制对象数 最大3Line控制可能
显示器 彩色液晶触摸屏
数据通讯 存储卡或RS232C通讯

Na2SiO3

浓度测定原理 中和滴定法测定方式
装置形式 SEEDA-DEV
测定成分名 Na2SiO3
测定范围 0~20.00wt%(可变更)
测定精度 测定值±0.001wt%以下
浓度控制精度 设定值±0.10%以下
补给控制药液 高浓度的 Na2SiO3

KOH系

浓度测定原理 中和滴定法测定方式
装置形式 SEEDA-DEV/1by2型/ Max/1by3可增设
测定成分名 KOH
测定范围 0~5.00wt%(可变更)
测定精度 测定值±0.001wt%以下
浓度控制精度 设定值±0.10%以下
补给控制药液 高浓度的KOH

NaOH系

浓度测定原理 中和滴定法测定方式
测定成分名 NaOH/Na2CO3/NaHCO3
测定范围
(可变更)
NaOH/0.0~2.00g/L
0~5.00wt%
NaHCO3/0.0~2.00g/L
测定精度 NaOH测定值±0.02g/L以下
Na2CO3测定值±0.08g/L以下
补给控制药液 高浓度的NaOH

欢迎您的垂询。

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