浓度测定控制装置、自动控制、诊断控制装置等各种生产Line装置的研发、提案

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SEEDA-DEV

适用领域

本装置通过将显影反应中有效的TMAT的浓度控制在设定的浓度值范围内，从而大幅削减显影液用量，保证加工品质。
此外。也适用于显影加工液中的有效 Na2SiO3，KOH，NaOH浓度的测定。

游离TMAH系

控制方式 序列器控制方式 测定方式 特殊中和滴定法 测定范围 TMAH： 0.00～5.00 wt％ TMAH・CO3： 0.00～2.00 wt％ 光该胶： 0.00～1.00 abs 最短测定周期 7min/1成分测定 测定精度 TMAH： 测定值±0.01wt％ TMAH・CO3： 测定值±0.01wt％ 控制对象数 最大3Line控制可能 显示器 彩色液晶触摸屏 数据通讯 存储卡或RS232C通讯

Na₂SiO₃系

浓度测定原理 中和滴定法测定方式 装置形式 SEEDA-DEV 测定成分名 Na2SiO3 测定范围 0～20.00wt％（可变更） 测定精度 测定值±0.001wt％以下 浓度控制精度 设定值±0.10％以下 补给控制药液 高浓度的 Na2SiO3

KOH系

浓度测定原理 中和滴定法测定方式 装置形式 SEEDA-DEV/1by2型／ Max／1by3可增设 测定成分名 KOH 测定范围 0～5.00wt％（可变更） 测定精度 测定值±0.001wt％以下 浓度控制精度 设定值±0.10％以下 补给控制药液 高浓度的KOH

NaOH系

浓度测定原理 中和滴定法测定方式 测定成分名 NaOH／Na2CO3／NaHCO3 测定范围 （可变更） NaOH／0.0～2.00g／L 0～5.00wt％ NaHCO3／0.0～2.00g／L 测定精度 NaOH测定值±0.02g／L以下 Na2CO3测定值±0.08g／L以下 补给控制药液 高浓度的NaOH