1. 爱纳克 首页
  2. 装置大全
  3. 液晶/半导体/其他电子部品生产Line
  4. 装置便览
  5. SEEDA-SI型

液晶/半导体/其他电子部品生产Line

SEEDA-SI

适用领域

本装置通过对晶体硅蚀刻加工液中的游离硝酸・游离醋酸・游离氢氟酸浓度及蚀刻反应生成的氟硅酸浓度进行实时的测量,并将反应中的有效成分游离硝酸・游离醋酸・游离氢氟酸浓度控制在设定的浓度值范围内,从而实现大幅削减药液用量,保证加工品质的效果。

浓度测定控制部

SEEDA-SI
控制方式 CPU控制方式
测定方式 特殊中和滴定法
测定范围 游离硝酸/0~40%
游离醋酸/0~40%
游离氟酸/0~20%
最短测定周期 15min/3成分测定
测定精度 硝酸/测定值±0.2%以下
醋酸/测定值±0.3%以下
氟酸/测定值±0.4%以下
控制对象数 最大3Line控制可能
显示器 彩色液晶触摸屏
数据输出 4~20mA(3点)

药液计量补给部

SEEDA-SI
泵控制方式 脉冲控制方式
计量泵形式 防腐隔膜型
计量控制范围 0~300ml/min
样液循环
泵形式
磁力泵型
计量泵搭载数 3台
样液循环
泵搭载数
1台

试剂格纳部

SEEDA-SI
格納物 测定试剂
液位监视方式 光学式液位传感器

欢迎您的垂询。

装置大全

公司简介

联系我们

展示会

PAGE TOP